机械手
生产线
全凯发二通道成品凯发国际官网
全凯发内外圈超声波凯发国际官网
全凯发四通成品道凯发国际官网
全凯发圆锥轴承组装机
圆锥轴承凯发磨加工连线
超声波摇动凯发国际官网
全凯发定位凯发国际官网
密封圈全凯发涂胶机
单通道定位凯发国际官网
欢迎你选购我们公司的产品!
请您将所需的产品情况填入下面的表格,我们将制定有效的可行性方案给您,我们收到你的订单后会尽快响应。
 
主页>>行业动态
LCD清洗技术现状及展望
发布者:admin  日期:2010-8-5  点击:2375

LCD清洗属于精密清洗领域,对清洗的质量、效率要求很高,以前,LCD工厂大多使用的是ODS清洗剂和超声气相清洗技术,在国际上加速淘汰ODS清洗剂的压力下,LCD厂正在积极选用替代ODS清洗剂(或称非ODS清洗剂),替代清洗剂必须保证清洗的LCD质量不低于原用ODS清洗剂的清洗标准,甚至更高。

非ODS清洗技术

到目前为止,LCD行业已有15家企业参与了《中国清洗行业ODS整体淘汰计划》,并获得国际多边基会赠款。其中已有10家企业的替代设备投入运行。但仍有少数LCD厂继续使用CFC-113及TCA。部分已淘汰ODS清洗剂的企业也面临进一步优选工艺、设备及非ODS清洗剂,以便提高LCD清洗品质及效益的问题。以下讨论LCD行业非ODS清洗技术的现状。

非ODS清洗剂及其工艺路线的选择

适用于LCD行业的非ODS清洗剂有水基、半水基和溶剂型三种, 水基、半水基清洗剂适用于超声水洗工艺路线,溶剂型清洗剂适用于气相超声清洗工艺路线。表1列举了各种清洗技术的比较,列举了部分溶剂型HCFC和 HFC等替代物的基本物化性能指标。

水基、半水基及溶剂型三种替代清洗剂中,水基清洗剂的清洗速度远远不及溶剂和半水基型清洗剂。其原因有二:一是水基清洗剂去除LCD残留液晶以表面活性剂与液晶的乳化作用为主,乳化对超声波的依赖性较大;二是水的表面张力比溶剂大,对狭缝的湿润性能较差。而表面张力较低的半水基和溶剂型清洗剂与液晶是一种溶解作用。

可用于直接替代CFC-113气相清洗剂的溶剂型清洗剂包括HCFC、HFC、n-PB、HFE、低沸点碳氢化合物及其含氧衍生物。其中HCFC类如HCFC141b、HCFC225,因ODP值不等于0,为过渡性替代物;n-PB等卤代烃在有水存在时对ITO具有较大的腐蚀性,而且n-PB的毒性至今尚无定论;HFC及HFE类的优点是ODP等于0,但价格昂贵,且HFC4310具有极高的GWP值,低沸点的碳氢化合物及其含氧衍生物开始大的问题是易燃易爆,使用该类清洗剂必须采用有防爆功能的清洗设备。

基于上述水基清洗剂的清洗效力较低和溶剂型清洗剂的诸多问题。国内外绝大部分LCD企业采用半水基清洗剂作为CFC-113的替代物,使用闪点大于等于61℃碳氢化合物既保证了清洗剂在使用、存储和运输过程中的安全性,又利用碳氢化合物与液晶的互溶性,较快的清洗残留液晶,并辅以表面活性剂经多道水漂洗,可以满足LCD行业对清洗的品质和效率越来越高的要求。

 
[返回] [打印]
 
 
 
Copyright © 无锡凯发app有限公司 WUXI SUNLIGHT AUTOMATIC EQUIPMENT CO.,LTD. Allreserved.
地址:无锡市惠山区堰桥工业园堰桥路35号22幢 电话:0510-83571718 传真:0510-83571708 Http://www.wxshenglan.com